以鋁板為陽極置于電解質溶液中，使用電解效果，使其表面構成氧化鋁薄膜的進程，稱為鋁板的陽極氧化處理。其設備中陰極為在電解溶液中化學穩定性高的材料，如鉛、不銹鋼、鋁等。鋁陽極氧化的原理實質上就是水電解的原理。當電流經過期，在陰極上，放出；在陽極上，分出的氧不僅是分子態的氧，還包含原子氧（O）和離子氧，通常在反響中以分子氧表明。作為陽極的鋁被其上分出的氧所氧化，構成無水的氧化鋁膜，生成的氧并不是悉數與鋁效果，一部分以氣態的方式分出。

陽極氧化鋁板氧化電解溶液的挑選：陽極氧化膜成長的一個先決條件是，電解液對氧化膜應有溶解效果。但這并非說在所有存在溶解效果的電解液中陽極氧化都能生成氧化膜或生成的氧化膜性質相同。

陽極氧化鋁板氧化的品種：陽極氧化按電流方式分為：直流電陽極氧化，交流電陽極氧化，脈沖電流陽極氧化。按電解液分有：硫酸、草酸、鉻酸、混合酸和以磺基有機酸為主溶液的天然上色陽極氧化。按膜層性質分有：普通膜、硬質膜（厚膜）、瓷質膜、亮光潤飾層、半導體效果的阻擋層等陽極氧化。鋁及鋁合金常用陽極氧化辦法和工藝條件見表-5。其間以直流電硫酸陽極氧化法的使用較為遍及。

陽極氧化鋁板氧化膜結構、性質：陽極氧化膜由兩層組成，多孔的厚的外層是在具有介電性質的細密的內層上上成長起來的，后者稱為阻擋層。用電子顯微鏡調查研討，膜層的縱橫面簡直全都出現與金屬表面筆直的管狀孔，它們貫穿膜外層直至氧化膜與金屬界面的阻擋層。以各孔隙為主軸周圍是細密的氧化鋁構成一個蜂窩六棱體，稱為晶胞，整個膜層是又無數個這樣的晶胞組成。阻擋層是又無水的氧化鋁所組成，薄而細密，具有高的硬度和阻撓電流經過的效果。阻擋層厚約0.03-0.05μm，為總膜后的0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外層主要是又非晶型的氧化鋁及小量的水合氧化鋁所組成，此外還含有電解液的陽離子。當電解液為硫酸時，膜層中硫酸鹽含量在正常狀況下為13%-17%。氧化膜的大部分優秀特性都是由多孔外層的厚度及孔隙率所覺決議的，它們都與陽極氧化條件密切相關。